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薄膜応力測定システム（kSA MOS Film Stress Measurement System）、別名薄膜応力計または薄膜応力計！
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非接触MOSレーザー技術を採用する、正確なサンプル表面応力分布の統計分析を行うことができるだけでなく、サンプル表面の2次元応力、曲率イメージング分析を行うこともできる、そして、この設計は常にすべてのアレイのレーザースポットが常に同じ周波数で運動したりスキャンしたりすることを保証し、それによって効果的に外部振動が試験結果に与える影響を回避し、同時にテストの解像度を大幅に向上させた、各種材質と厚さフィルムの応力分析に適している、

典型的なユーザー：Harvard University 2セット、Stanford University、Johns Hopkins University、Brown University 2セット、Karlsruhe Research Center,Max Planck Institute，西安交通大学、中国計量科学研究院など、半導体体制とマイクロエレクトロニクスメーカー（例えばIBM.，Seagate Research Center,Phillips Semiconductor,NEC，Nissan ARC,Nichia Glass Corporation）など、

関連製品：
*リアルタイムインサイチュフィルム応力計（kSA MOS Film Stress Tester）：同様にマルチビームMOS技術を採用し、各種真空蒸着設備（例えば：MBE、MOCVD、sputtering、PLD、PECVD、and annealing chambers ects）に取り付け、薄膜成長過程における応力変化に対してリアルタイムのその場測定と2次元イメージング分析を行うことができる、
*薄膜熱応力測定システム（kSA MOS Thermal-Scan Film Stress Tester）

技術パラメータ：
kSA MOS Film Stress Tester, kSA MOS Film Stress Measurement System，kSA MOS Film Stress Mapping System;
1.XY双方向プログラム制御走査プラットフォームの走査範囲：300 mm（XY）（オプション）、
2.XY双方向スキャン速度：最大20 mm/s、
3.XY双方向スキャンプラットフォームのスキャン最小ステップ/解像度：2μm、
4.サンプルholder互換性：50mm, 75mm, 100mm, 150mm, 200mm, and 300mm直径サンプル
5.プログラム化制御スキャンモード：選択領域、多点線形スキャン、全面積スキャン、
6.イメージング機能：サンプル表面2D曲率、応力イメージング、および3Dイメージング解析、
7.測定機能：曲率、曲率半径、応力強度、応力、Bowや反りなど、

主な特徴：
1.プログラム化制御スキャンモード：単一点スキャン、選択領域、多点線形スキャン、全面積スキャン、
2.イメージング機能：サンプル表面2 D曲率イメージング、定量フィルム応力2 Dイメージング分析、
3.測定機能：フィルム応力、反り、曲率半径など、
4.変温応力測定機能を支持し、温度範囲-65 C to 1000 C；
5.フィルム残留応力測定；

実際の用途：